水中含有大量雜質(zhì)，只有去除水中的雜質(zhì)，才能用于對水純度要求高的行業(yè)。
EDI超純水設(shè)備可以去除水中的各種雜質(zhì)，超純水系統(tǒng)處理后的水可以滿足電子行業(yè)的需求，實驗室等高標準用水，因此可以通過超純水設(shè)備去除其中的雜質(zhì)。
超純水設(shè)備去除雜質(zhì)
1.溶解無機鹽
EDI超純水設(shè)備有鈉、鈣、鎂等鹽類，溶于水形成正離子。當含有這些離子的水沖洗半導體器件時，這些雜質(zhì)會擴散到集成電路表面，造成短路。過去是用蒸餾水去除水中的無機鹽，現(xiàn)在是三重蒸餾水。水的電阻率只有3兆歐-厘米，而且水中仍然含有大于01ppm的NaCl。最近，反滲透去離子很有用，所以使用離子交換樹脂，陽離子交換脂和陰離子交換樹脂分開使用，易于再生，混床離子交換樹脂用于離子交換的最后階段，起到看門人的作用。這種水可以達到18兆歐厘米（25攝氏度）。
2.溶解有機物
有工業(yè)廢物、洗滌劑、可生物降解產(chǎn)品和微生物代謝物，這些可以通過活性炭吸附法去除，炭床要放在離子交換樹脂之前，因為活性炭本身會帶雜質(zhì)。必須注意的是，進入樹脂床的水首先要除去有機物，因為離子交換樹脂很容易被有機物（如腐殖酸）污染。反滲透可以去除分子量大于300的有機物，分子量小于300的有機物可以去除90%。
3.顆粒物
EDI超純水設(shè)備在很多地方容易生產(chǎn)，如碳床、樹脂床、深度過濾等設(shè)備。雖然使用了一些方法來實現(xiàn)高電阻率，但顆粒物并沒有被有效去除，這會導致半導體器件中出現(xiàn)針孔、短路、開路、內(nèi)部擊穿和光刻膠脫落等缺陷。為了去除顆粒物，僅使用膜過濾，一般采用孔徑為0.45微米的微孔濾膜作為標準，對于特殊需要，采用孔徑為0.22微米的微孔濾膜去除膠體鐵、膠體硅和小細菌，反滲透還可以去除小顆粒。
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更新時間：2022-02-22 
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